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HELE晶振,HXS321G諧振器,臺灣石英晶振.高精度晶片的拋光技術:是目前晶片研磨技術中表面處理技術的最高技術,最終使晶片表面更光潔,平行度及平面度更好,降低諧振電阻,提高Q值,從而達到一般研磨所達不到的產品性能,使石英晶體元器件的等效電阻等更接近理論值,使石英晶體元器件可在更低功耗下工作,使用先進的牛頓環及單色光的方法去檢測晶片表面的狀態.
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說明 | HXS321G晶振規格 |
頻率范圍 | 12~50MHZ |
頻率穩定度 | A:±100 B:±50 C: ±30 D: ±25 |
輸出電平 | CMOS |
工作溫度 | -10℃~+60℃,-20℃~+70℃,或客戶要求 |
保存溫度 | -40℃~+85℃ |
負載電容 | 15pF |
輸出對稱 | 40% ~ 60% or 45% ~ 55%(at 55%V DC) |
包裝 |
3000/pcs |
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加高晶振承諾所有的運作皆遵守本地國家的法律,2003年通過ISO14001環境管理系統驗證,秉持“污染預防、持續改善”之原則,公司事業廢棄物產出量逐年降低,可回收、再利用之廢棄物比例逐年提高,各項排放檢測數據符合政府法規要求.并由原材料管控禁用或限用環境危害物質與國際大廠對于綠色生產及綠色產品的要求相符,于2004年通過SONY 綠色伙伴(Green Partner)驗證.并符合國際上所共同認知環保與社會責任的標準,成為一個創造股東最大權益、照顧員工、善盡社會責任的好公司. 我們將持續關注企業社會責任各項新議題,使本公司更加完整并落實企業社會責任所有面向. 對內,我們將透過各種教育訓練與活動,用心創造一個多元且充滿活力的工作環境 (例如健康促進活動); 對外,本公司透過與利害相關團體間的溝通,積極落實企業社會責任活動,持續投入社會公益,降低對社會環境之沖擊.

The formula for Capacitances versus Frequency is as following:
該公式的電容與頻率是如下:FL = FR * (1 + C1 / 2 * (C0 + CL) ) where該曲線代表電容變化與頻率變化(頻率pullability)變化的變化:如果由頻率計數器測量的頻率比目標頻率高,要增加電容(CL,或Cd以及C 8)的值,以降低頻率到目標頻率,反之亦然,請檢查波形幅度是否改善或沒有經過我們調整頻率,如果它的改善,這表示該電路的原始設計不是調諧到最佳共振點為晶體的情況,該晶體應正常后,諧振點的調整,如果波形幅度甚至沒有提高的頻率非常接近目標頻率,我們可以通過以下三種方法改進:方法1:降低產品線路外部電容(Cd和CG)的值,并通過晶體具有較低負載電容(CL),方法2:采用小電阻(RR)的晶體,方法3:使用鎘和CG的不等價的設計.

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